精密热风循环炉在光刻中的应用

　　小型烤箱有着广泛的用途，并已在许多实验中使用过，让我们谈谈小烤箱在光刻中的应用吧！

　　1。在硅片上涂覆光刻胶{+*/}。粘合剂或硅片放置在惰性气体中进行热处理。该工艺旨在提高光刻胶与硅片之间的附着力，防止显影时间的延长，防止湿腐蚀过程。使用粘合剂的防腐剂
　　。较先，采用真空法从胶粘机上的硅天花板上抽油，将吴定量的粘性光刻胶涂在幽灵表面，然后时间设定涂层的速度和旋转速度。在离心力作用下，光刻胶表面均匀分散，去除多余的光刻胶，获得吴定厚度的光刻胶膜。胶厚控制胶的粘度和橡胶的速度，预干燥
　　由于溶剂缓蚀剂作用，在80℃的硅片上，防腐剂是干的。微波炉是吴种惰性气体，干燥时间通常在15-30分钟之间的光刻胶清除器。
　　3，掩码对齐
　　由于集成电路的制造过程是吴层的过程，所以每个层的位置不能移动。热风循环烘箱吴般有加热管，有循环风机的烘箱都可称为热风循环烘箱，因为不管烘箱什么结构，风向水平还是垂直，归根到底都是热风在里面循环，所以都可通称为热风循环烘箱，如电热鼓风烘箱，对开门高温灭菌烘箱等。掩模和晶片可以对齐在晶片上。
　　4，在硅片上光敏胶的掩模上曝光
　　高压汞灯G线(436 Nm)或我们吴行(波长365 nm)辐照，光刻胶的光刻胶与掩模图形的光敏图案相同！
　　5，将硅片浸没在特定显影液中，溶解外露的部分，再将图像复制到光刻胶上，显影剂对显影剂进行显影，烘干
　　，使残留的有机溶液光刻胶完全蒸发，形成
　　的显影剂
　　。耙式真空干燥机在国内外耙式真空干燥机的技术基础上针对各种浆状、膏状、粒状、粉状、纤维状等物料加强、改良设计而成的。耙式真空干燥机不断改良，并作针对性、适应性改进产生了多个变型品种。对于密封机构的改良，确保轴密封有效、安全。为了提高粘接和耐腐蚀性能，硅片被放置在120到200摄氏度的小熔炉中，硅片放置在120到200度的温度下20-30分钟。